Bachelor's Degree Programme in
Linguistic and Cultural Mediation

Linguistic and Cultural Mediation [LT5-21-21]
Enrolled in a.y. 2021/2022

Tiziano FINOTTO

Qualifica
Tecnico Amministrativo
Telefono
041 234 6712 / 041 234 6785
E-mail
tiziano@unive.it
Sito web
www.unive.it/persone/tiziano (scheda personale)
Struttura
Dipartimento di Scienze Molecolari e Nanosistemi (Referente Tecnico Eta)
Sito web struttura: https://www.unive.it/dsmn
Sede: Campus scientifico via Torino
Stanza: studio 0S06 (edificio Eta, piano terra) / laboratori di ricerca 10, 12, 17, 18, 19 (edificio Eta, piano terra)
Sicurezza
Addetto Squadre di Emergenza
Preposto di Laboratorio
Referente per le Emergenze di Sede

Enrichi F.; Cattaruzza E.; Finotto T.; Riello P.; Righini G.C.; Trave E.; Vomiero A. Ag-Sensitized NIR-emitting Yb3+-doped glass-ceramics in APPLIED SCIENCES, vol. 10, pp. 2184 (ISSN 2076-3417)
DOI 2020, Articolo su rivista - Scheda ARCA: 10278/3725307


Cattaruzza, E; Battaglin, G.; Cristofori, D.; Finotto, T.; Riello, P.; Glisenti, A. On the synthesis and thermal stability of RuN, an uncommon nitride in SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY, vol. 295, pp. 93-98 (ISSN 0257-8972)
DOI - URL correlato 2016, Articolo su rivista - Scheda ARCA: 10278/3672612


Cattaruzza, E.; Battaglin, G.; Cristofori, D.; Finotto, T.; Riello, P.; Glisenti, A. On the synthesis and thermal stability of RuN, an uncommon nitride , Legnaro (PD), LNL - Laboratori Nazionali di Legnaro
2016, Rapporto di ricerca - Scheda ARCA: 10278/3689688


Chandrashekhar Malba; Umayal P. Sudhakaran; Silvia Borsacchi; Marco Geppi; Francesco Enrichi; Marta Maria Natile; Lidia Armelao;Tiziano Finotto; Riccardo Marin; Pietro Riello; Alvise Benedetti Structural and photophysical properties of rare-earth complexes encapsulated into surface modified mesoporous silica nanoparticles in DALTON TRANSACTIONS, vol. 43, pp. 16183-16196 (ISSN 1477-9226)
DOI 2014, Articolo su rivista - Scheda ARCA: 10278/43633


E. CATTARUZZA; G. BATTAGLIN; CANTON P.; T. FINOTTO; C. SADA Copper-based nanocluster composite silica films by rf-sputtering deposition in MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING. C, BIOMIMETIC MATERIALS, SENSORS AND SYSTEMS, vol. 26, pp. 1092-1096 (ISSN 0928-4931)
DOI 2006, Articolo su rivista - Scheda ARCA: 10278/37832